Characteristics of ALD‐ZnO Thin Film Transistor Using H <sub>2</sub> O and H <sub>2</sub> O <sub>2</sub> as Oxygen Sources (Adv. Mater. Interfaces 15/2022)

نویسندگان

چکیده

Characteristics of ALD-ZnO Thin Film Transistor In article number 2101953, Jun Yang, Amin Bahrami, Kornelius Nielsch, and co-workers report that during atomic layer deposition (ALD)-ZnO process, H2O2 provides an oxygen-rich environment inducing less oxygen vacancies into the ZnO thin film. After applying a bias stress 10 V for 3600 s, threshold voltage shift H2O2-ZnO film transistor is 0.13 V.

برای دانلود باید عضویت طلایی داشته باشید

برای دانلود متن کامل این مقاله و بیش از 32 میلیون مقاله دیگر ابتدا ثبت نام کنید

اگر عضو سایت هستید لطفا وارد حساب کاربری خود شوید

منابع مشابه

بررسی عدم استقرار الکترون در پیوندهای هیدروژنی درون مولکولی از نوع o-h…o , n-h…n , s-h…s

چکیده در مطالعه کنونی، عدم استقرار الکترون در پیوندهای هیدروژنی کمک شده رزونانسی درون مولکولی از نوع o-h…o ، n-h…n، s-h…s در سطوح تئوری mp2 و b3lyp با استفاده از سری پایه استاندارد 6-311++g** و تئوری کوانتومی "اتمها در مولکولها" (qtaim) مورد بررسی قرار گرفته است. انرژی پیوندهای هیدروژنی درون مولکولی برای این سیستم ها از روش اسپینوزا که مبتنی بر پارامترهای توپولوژیکال مشتق شده از تئوری aim می ب...

15 صفحه اول

O  M S-o T H

We compare classes of finite relational structures via monadic second-order transductions. More precisely, we study the preorder C ⊑ K : iff C ⊆ τ(K) for some transduction τ. If we only consider classes of incidence structures we can completely describe the resulting hierarchy. It is linear of order type ω + . Each level can be characterised in terms of a suitable variant of tree-width. Canoni...

متن کامل

Transistor Characteristics with Ta O Gate Dielectric

As the gate oxide thickness decreases below 2 nm, the gate leakage current increases dramatically due to direct tunneling current. This large gate leakage current will be an obstacle to reducing gate oxide thickness for the high speed operation of future devices. A MOS transistor with Ta2O5 gate dielectric is fabricated and characterized as a possible replacement for MOS transistors with ultra-...

متن کامل

Effect of Surface Energy on Pentacene Thin-Film Growth and Organic Thin Film Transistor Characteristics

In this study, we discuss pentacene-based organic thin films grown on a self-assembled monolayer (SAM)-treated dielectric with various functional groups and molecular lengths. The functional groups and molecular lengths on the dielectric surface were modified using a SAM treatment followed by ultra violet (UV) light exposure. Surface energy was used to observe the surface polarity variation dur...

متن کامل

ذخیره در منابع من


  با ذخیره ی این منبع در منابع من، دسترسی به آن را برای استفاده های بعدی آسان تر کنید

ژورنال

عنوان ژورنال: Advanced Materials Interfaces

سال: 2022

ISSN: ['2196-7350']

DOI: https://doi.org/10.1002/admi.202270082